Ing proses manufaktur pengecoran wafer semikonduktor kanthi proses produksi sing relatif maju, meh 50 jinis gas sing beda dibutuhake. Gas umume dipérang dadi gas akeh langas khusus.

Aplikasi gas ing industri mikroelektronik lan semikonduktor Panggunaan gas tansah nduweni peran penting ing proses semikonduktor, utamane proses semikonduktor sing akeh digunakake ing macem-macem industri. Saka ULSI, TFT-LCD menyang industri mikro-elektromekanik (MEMS) saiki, proses semikonduktor digunakake minangka proses manufaktur produk, kalebu etsa garing, oksidasi, implantasi ion, deposisi film tipis, lsp.

Contone, akeh wong sing ngerti yen kripik digawe saka wedhi, nanging ndeleng kabeh proses manufaktur chip, luwih akeh bahan sing dibutuhake, kayata photoresist, cairan polishing, bahan target, gas khusus, lan liya-liyane. Kemasan mburi uga mbutuhake substrat, interposer, pigura timbal, bahan ikatan, lan liya-liyane saka macem-macem bahan. Gas khusus elektronik minangka bahan paling gedhe nomer loro ing biaya manufaktur semikonduktor sawise wafer silikon, diikuti topeng lan fotoresist.

Kemurnian gas duwe pengaruh sing nemtokake kinerja komponen lan ngasilake produk, lan safety pasokan gas ana gandhengane karo kesehatan personel lan safety operasi pabrik. Napa kemurnian gas duwe pengaruh gedhe ing garis proses lan personel? Iki ora exaggeration, nanging ditemtokake dening karakteristik mbebayani saka gas dhewe.

Klasifikasi gas umum ing industri semikonduktor

Gas Biasa

Gas biasa uga diarani gas akeh: nuduhake gas industri kanthi syarat kemurnian luwih murah tinimbang 5N lan volume produksi lan penjualan sing gedhe. Bisa dipérang dadi gas pamisahan udara lan gas sintetik miturut cara persiapan sing beda. Hidrogen (H2), nitrogen (N2), oksigen (O2), argon (A2), lsp;

Gas Khusus

Gas khusus nuduhake gas industri sing digunakake ing lapangan tartamtu lan nduweni syarat khusus kanggo kemurnian, macem-macem, lan sifat. UtamaneSiH4PH3, B2H6, A8H3,HCLCF4,NH3, POCL3, SIH2CL2, SIHCL3,NH3, BCL3, SIF4, CLF3, CO, C2F6, N2O, F2, HF, HBR,SF6… lan liya-liyane.

Jinis gas Spicial

Jinis gas khusus: korosif, beracun, gampang kobong, ndhukung pembakaran, inert, lsp.
Gas semikonduktor sing umum digunakake diklasifikasikake kaya ing ngisor iki:
(i) Korosif/beracun:HClBF3, WF6, HBr, SiH2Cl2, NH3, PH3, Cl2,BCl3…
(ii) Kebakar: H2,CH4、SiH4PH3, AsH3, SiH2Cl2, B2H6, CH2F2, CH3F, CO…
(iii) Mudah terbakar: O2, Cl2, N2O, NF3…
(iv) Inert: N2,CF4C2F6C4F8、SF6CO2,Ne、Kr、 Dheweke…

Ing proses manufaktur chip semikonduktor, kira-kira 50 macem-macem jinis gas khusus (diarani gas khusus) digunakake ing oksidasi, difusi, deposisi, etsa, injeksi, fotolitografi lan proses liyane, lan total langkah proses ngluwihi atusan. Contone, PH3 lan AsH3 digunakake minangka sumber fosfor lan arsenik ing proses implantasi ion, gas basis F CF4, CHF3, SF6 lan gas halogen CI2, BCI3, HBr sing umum digunakake ing proses etsa, SiH4, NH3, N2O ing proses film deposisi, F2/Kr/Ne, Kr/Ne ing proses photolithography.

Saka aspek ing ndhuwur, kita bisa ngerti manawa akeh gas semikonduktor sing mbebayani kanggo awak manungsa. Utamane, sawetara gas, kayata SiH4, bisa nyala dhewe. Anggere padha bocor, padha bakal nanggepi violently karo oksigen ing udhara lan wiwit kobong; lan AsH3 beracun banget. Sembarang kebocoran sing sithik bisa nyebabake cilaka kanggo urip wong, saengga syarat keamanan desain sistem kontrol kanggo panggunaan gas khusus utamane dhuwur.

Semikonduktor mbutuhake gas kemurnian dhuwur duwe "telung derajat"

Kemurnian gas

Isi atmosfer pengotor ing gas biasane dituduhake minangka persentase kemurnian gas, kayata 99,9999%. Umumé, syarat kemurnian kanggo gas khusus elektronik tekan 5N-6N, lan uga dituduhake kanthi rasio volume isi atmosfer impurity ppm (bagean saben yuta), ppb (bagean saben milyar), lan ppt (bagean saben triliun). Lapangan semikonduktor elektronik nduweni syarat paling dhuwur kanggo kemurnian lan stabilitas kualitas gas khusus, lan kemurnian gas khusus elektronik umume luwih saka 6N.

kekeringan

Isi banyu tilak ing gas, utawa udan, biasane ditulis ing titik embun, kayata titik embun atmosfer -70 ℃.

Karesikan

Jumlah partikel polutan ing gas, partikel kanthi ukuran partikel µm, dituduhake ing jumlah partikel / M3. Kanggo udara sing dikompres, biasane ditulis ing mg / m3 residu padhet sing ora bisa dihindari, sing kalebu isi minyak.