Ing proses manufaktur wafer saka semikonduktor kanthi proses produksi sing cukup maju, meh 50 jinis gas dibutuhake. Gas umume dipérang dadi gas bulk langas khusus.

Aplikasi gas ing industri mikroelector lan semikonduktor panggunaan gas-gas mesthi nduweni peran penting ing proses semikonduktor, utamane proses semikonduktor digunakake ing macem-macem industri. Saka Ulsi, TFT-LCD menyang industri mikro-elektromekanik (MEMS) sing saiki digunakake minangka proses manufaktur produk, kalebu etching garing, kalebu etching garing, oksidasi, deposisi film tipis, lsp.

Contone, akeh wong sing ngerti yen Kripik digawe saka wedhi, nanging ndeleng kabeh proses manufantur chip, kayata fotoresist, bahan polesan, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus, gas khusus. Paket mundur mburi uga mbutuhake substrat, InterSacers, pigura timbal, bahan ikatan, lan sapiturute saka macem-macem bahan. Gas khusus elektronik minangka bahan nomer loro paling gedhe ing biaya pabrik semikonduktor sawise wafers silikon, diikuti topeng lan photoresist.

Kemurnian gas duwe pengaruh sing nemtokake babagan kinerja komponen lan ngasilake produk sing ana gandhengane karo kesehatan personel lan keamanan operasi pabrik. Napa kemurnian gas duwe pengaruh gedhe ing garis proses lan personel? Iki dudu keterangan, nanging ditemtokake karo karakteristik sing mbebayani gas kasebut dhewe.

Klasifikasi gas umum ing industri semikonduktor

Gas Biasa

Gas biasa uga diarani bas bulk: Iki nuduhake gas kanthi syarat kesucian sing luwih murah tinimbang 5n lan volume dodolan gedhe. Bisa dipérang dadi gas pamisahan gas lan gas sintetik miturut macem-macem cara persiapan. Hidrogen (H2), Nitrogen (N2), Oksigen (O2), Argon (A2), lsp.;

Gas khusus

Gas khusus nuduhake gas industri sing digunakake ing kolom khusus lan duwe syarat khusus kanggo kemurnian, macem-macem, lan sifat. UtamaneSih4, Ph3, b2h6, a8h3,Hcl, Cf4,Nh3, Pocl3, sih2cl2, sihcl3,Nh3, BCL3, Sif4, CLF3, CO, C2F6, N2O, F2, HF, HF, HF, HF4,Sf6... lan sapiturute.

Jinis Gas Reciicer

Jinis gas khusus: corrorosive, beracun, flammable, pembakaran, pembakaran, inert, lsp.
Gas semikonduktor sing umume digunakake kaya sing diklasifikasikake:
(i) corrosive / beracun:Hcl, Bf3, wf6, hbr, sih2cl2, nh3, ph3, cl2,BCL3...
(II) Flammable: H2,Ch4,Sih4, Ph3, ash3, sih2cl2, b2h6, ch2f2, ch3f, co ...
(III) Kemungkinan: O2, CL2, N2O, NF3 ...
(iv) inert: N2,CF4, C2F6,C4F8,Sf6, CO2,Ne,Kr, Dheweke ...

Ing proses manufaktur chip semikonduktor, udakara 50 macem-macem jinis gas khusus (diarani minangka gas khusus) digunakake ing oksidasi, penyebaran, etchyl, langkah-langkah proses liyane ngluwihi atusan. Contone, Ph3 lan Ash3 digunakake minangka sumber fosfor lan arsenik ing proses ion implentation CF4, CF6, NG3, N2o ing proses film Deposit, F2 / NE ing prodhuk fotolithografi.

Saka aspek ing ndhuwur, kita bisa ngerti manawa akeh gas semikonduktor mbebayani kanggo awak manungsa. Khususé, sawetara gas, kayata SII4, nyalonake awake dhewe. Anggere bocor, dheweke bakal menehi reaksi kanthi kasar kanthi oksigen ing udhara lan wiwit ngobong; Lan Ash3 beracun banget. Sembarang bocor sethithik bisa nyebabake cilaka urip wong, saengga syarat kanggo desain desain sistem kontrol kanggo nggunakake gas khusus utamane.

Semikonductor mbutuhake gas kesucian sing dhuwur kanggo duwe "telung derajat"

Kemurnian gas

Isi suasana sing ora jelas ing gas biasane diwujudake minangka persentasi kesucian gas, kayata 99.9999%. Umumé, syarat-syarat kesucian gas khusus ing 5n-6n 6n, lan diartokaké dening rasio volume suasana sing ora ana gandhengane PPM (bagean saben milyar). Lapangan semikonduktor elektronik duwe syarat paling dhuwur kanggo kesucian lan stabilitas kualitas gas khusus, lan kemurnian gas khusus elektronik umume luwih saka 6n.

Pangatusan

Isi trace banyu ing gas, utawa udan, biasane ditulis ing titik embun, kayata atmosfer embun -70 ℃.

Kabersihan

Cacah partikel polusi ing gas, partikel kanthi ukuran partikel μm, ditulis kanthi pirang-pirang partikel / M3. Kanggo udhara sing kompres, biasane ditulis ing mg / m3 residu padat sing ora bisa diendhani, kalebu isi minyak.