Jumlah Gas Khusus Elektronik Paling Gedhe – Nitrogen Trifluorida NF3

Industri semikonduktor lan industri panel negara kita njaga tingkat kemakmuran sing dhuwur. Nitrogen trifluorida, minangka gas elektronik khusus sing penting lan volume paling gedhe ing produksi lan pangolahan panel lan semikonduktor, nduweni ruang pasar sing amba.

Gas elektronik khusus sing ngandhut fluor sing umum digunakake kalebubelerang heksafluorida (SF6)tungsten heksafluorida (WF6),karbon tetrafluorida (CF4), trifluorometana (CHF3), nitrogen trifluorida (NF3), heksafluoroetana (C2F6) lan oktafluoropropana (C3F8). Nitrogen trifluorida (NF3) utamane digunakake minangka sumber fluorin kanggo laser kimia energi dhuwur gas hidrogen fluorida-fluorida. Bagean efektif (udakara 25%) saka energi reaksi antarane H2-O2 lan F2 bisa dirilis dening radiasi laser, mula laser HF-OF minangka laser sing paling njanjeni ing antarane laser kimia.

Nitrogen trifluorida minangka gas etsa plasma sing apik banget ing industri mikroelektronika. Kanggo ngetsa silikon lan silikon nitrida, nitrogen trifluorida nduweni tingkat etsa lan selektivitas sing luwih dhuwur tinimbang karbon tetrafluorida lan campuran karbon tetrafluorida lan oksigen, lan ora ana polusi ing permukaan. Utamane ing etsa bahan sirkuit terpadu kanthi kekandelan kurang saka 1,5um, nitrogen trifluorida nduweni tingkat etsa lan selektivitas sing apik banget, ora ninggalake residu ing permukaan obyek sing dietsa, lan uga minangka agen pembersih sing apik banget. Kanthi perkembangan nanoteknologi lan perkembangan industri elektronik skala gedhe, panjaluke bakal saya tambah saben dina.

Minangka jinis gas khusus sing ngandhut fluor, nitrogen trifluorida (NF3) minangka produk gas khusus elektronik paling gedhé ing pasar. Gas iki inert sacara kimia ing suhu ruangan, luwih aktif tinimbang oksigen, luwih stabil tinimbang fluor, lan gampang ditangani ing suhu dhuwur.

Nitrogen trifluorida utamane digunakake minangka gas etsa plasma lan agen pembersih ruang reaksi, cocok kanggo bidang manufaktur kayata chip semikonduktor, layar panel datar, serat optik, sel fotovoltaik, lan liya-liyane.

Dibandhingake karo gas elektronik liyane sing ngandhut fluor, nitrogen trifluorida nduweni kaluwihan reaksi cepet lan efisiensi dhuwur, utamane ing etsa bahan sing ngandhut silikon kayata silikon nitrida, nduweni tingkat etsa lan selektivitas sing dhuwur, ora ninggalake residu ing permukaan obyek sing diukir, lan uga minangka agen pembersih sing apik banget, lan ora ngotorisasi permukaan lan bisa nyukupi kabutuhan proses pangolahan.