Gas elektronik khusus sing ngandhut fluor umum kalebubelerang heksafluorida (SF6)tungsten heksafluorida (WF6),karbon tetrafluorida (CF4), trifluorometana (CHF3), nitrogen trifluorida (NF3), heksafluoroetana (C2F6) lan oktafluoropropana (C3F8).
Kanthi perkembangan nanoteknologi lan perkembangan industri elektronik skala gedhe, panjaluke bakal saya tambah saben dina. Nitrogen trifluorida, minangka gas elektronik khusus sing penting lan paling akeh digunakake ing produksi lan pangolahan panel lan semikonduktor, nduweni ruang pasar sing amba.
Minangka jinis gas khusus sing ngandhut fluor,nitrogen trifluorida (NF3)minangka produk gas khusus elektronik kanthi kapasitas pasar paling gedhé. Iki inert sacara kimia ing suhu kamar, luwih aktif tinimbang oksigen ing suhu dhuwur, luwih stabil tinimbang fluor, lan gampang ditangani. Nitrogen trifluorida utamane digunakake minangka gas etsa plasma lan agen pembersih ruang reaksi, lan cocok kanggo bidang manufaktur chip semikonduktor, layar panel datar, serat optik, sel fotovoltaik, lan liya-liyane.
Dibandhingake karo gas elektronik liyane sing ngandhut fluor,nitrogen trifluoridanduweni kaluwihan reaksi cepet lan efisiensi dhuwur. Utamane ing etsa bahan sing ngemot silikon kayata silikon nitrida, nduweni tingkat etsa lan selektivitas sing dhuwur, ora ninggalake residu ing permukaan obyek sing diukir. Iki uga minangka agen pembersih sing apik banget lan ora ana polusi ing permukaan, sing bisa nyukupi kabutuhan proses pangolahan.
Wektu kiriman: 14-Sep-2024
