Produk
-
Oksigen (O2)
Oksigen iku gas sing ora ana warnane lan ora ana ambune. Iki minangka wujud unsur oksigen sing paling umum. Saka segi teknologi, oksigen diekstrak saka proses pencairan udara, lan oksigen ing udara nyumbang udakara 21%. Oksigen iku gas sing ora ana warnane lan ora ana ambune kanthi rumus kimia O2, sing minangka wujud unsur oksigen sing paling umum. Titik leleh yaiku -218,4°C, lan titik didih yaiku -183°C. Ora gampang larut ing banyu. Kira-kira 30mL oksigen dilarutake ing 1L banyu, lan oksigen cair warnane biru langit. -
Sulfur Dioksida (SO2)
Sulfur dioksida (sulfur dioksida) iku oksida sulfur sing paling umum, paling prasaja, lan ngganggu kanthi rumus kimia SO2. Sulfur dioksida iku gas sing ora ana warnane lan transparan kanthi ambu sing nyengat. Larut ing banyu, etanol lan eter, sulfur dioksida cair relatif stabil, ora aktif, ora gampang kobong, lan ora mbentuk campuran sing bisa njeblug karo udara. Sulfur dioksida nduweni sipat pemutih. Sulfur dioksida umume digunakake ing industri kanggo pemutih pulp, wol, sutra, topi jerami, lan liya-liyane. Sulfur dioksida uga bisa nyegah tuwuhing jamur lan bakteri. -
Etilena Oksida (ETO)
Etilena oksida minangka salah sawijining eter siklik sing paling prasaja. Iki minangka senyawa heterosiklik. Formula kimiane yaiku C2H4O. Iki minangka karsinogen beracun lan produk petrokimia sing penting. Sifat kimia etilena oksida aktif banget. Bisa ngalami reaksi tambahan pembukaan cincin karo akeh senyawa lan bisa ngurangi perak nitrat. -
1,3 Butadiena (C4H6)
1,3-Butadiena iku senyawa organik kanthi rumus kimia C4H6. Iki minangka gas tanpa warna kanthi ambu aromatik sing entheng lan gampang dicairke. Kurang beracun lan keracunane padha karo etilen, nanging nduweni iritasi sing kuwat ing kulit lan membran mukosa, lan nduweni efek anestesi ing konsentrasi dhuwur. -
Hidrogen (H2)
Hidrogen nduwèni rumus kimia H2 lan bobot molekul 2,01588. Ing suhu lan tekanan normal, iku gas sing gampang kobong, ora ana warna, transparan, ora ana ambu, lan ora ana rasa sing angèl larut ing banyu, lan ora reaksi karo akèh zat. -
Neon (Ne)
Neon iku gas langka sing ora ana warnane, ora ana ambune, lan ora gampang kobong kanthi rumus kimia Ne. Biasane, neon bisa digunakake minangka gas pengisi kanggo lampu neon warna-warni kanggo tampilan iklan ruangan terbuka, lan uga bisa digunakake kanggo indikator cahya visual lan pengaturan voltase. Lan komponen campuran gas laser. Gas mulia kayata Neon, Krypton lan Xenon uga bisa digunakake kanggo ngisi produk kaca kanggo ningkatake kinerja utawa fungsine. -
Karbon Tetrafluorida (CF4)
Karbon tetrafluorida, uga dikenal minangka tetrafluorometana, yaiku gas tanpa warna ing suhu lan tekanan normal, ora larut ing banyu. Gas CF4 saiki minangka gas etsa plasma sing paling akeh digunakake ing industri mikroelektronika. Iki uga digunakake minangka gas laser, refrigeran kriogenik, pelarut, pelumas, bahan insulasi, lan pendingin kanggo tabung detektor inframerah. -
Sulfuril Fluorida (F2O2S)
Sulfuril fluorida SO2F2, gas beracun, utamane digunakake minangka insektisida. Amarga sulfuril fluorida nduweni ciri difusi lan permeabilitas sing kuwat, insektisida spektrum sing amba, dosis sing sithik, jumlah residu sing sithik, kecepatan insektisida sing cepet, wektu dispersi gas sing cendhak, panggunaan sing trep ing suhu sing endhek, ora ana pengaruh ing tingkat perkecambahan lan keracunan sing endhek, mula saya akeh digunakake ing gudang, kapal kargo, bangunan, bendungan waduk, pencegahan rayap, lan liya-liyane. -
Silane (SiH4)
Silane SiH4 iku gas sing ora ana warnane, beracun, lan aktif banget dikompres ing suhu lan tekanan normal. Silane akeh digunakake ing pertumbuhan epitaksial silikon, bahan mentah kanggo polisilikon, silikon oksida, silikon nitrida, lan liya-liyane, sel surya, serat optik, manufaktur kaca berwarna, lan deposisi uap kimia. -
Oktafluorosiklobutana (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, kemurnian gas: 99,999%, asring digunakake minangka propelan aerosol panganan lan gas medium. Asring digunakake ing proses semikonduktor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), C4F8 digunakake minangka pengganti CF4 utawa C2F6, digunakake minangka gas pembersih lan gas etsa proses semikonduktor. -
Oksida Nitrat (NO)
Gas nitrat oksida iku senyawa nitrogen kanthi rumus kimia NO. Iki minangka gas beracun sing ora ana warnane, ora ana ambune, lan ora larut ing banyu. Nitrat oksida sacara kimia reaktif banget lan reaksi karo oksigen kanggo mbentuk gas korosif nitrogen dioksida (NO₂). -
Hidrogen Klorida (HCl)
Gas hidrogen klorida HCL iku gas tanpa warna kanthi ambu sing nyengat. Larutan banyune diarani asam klorida, uga dikenal minangka asam klorida. Hidrogen klorida utamane digunakake kanggo nggawe pewarna, rempah-rempah, obat-obatan, macem-macem klorida lan inhibitor korosi.
